「セラジン・トレー」はMEMS、半導体デバイス製造に於いて、ハロゲンガス等、
プラズマ・プロセス装置の真空下でSiウエハーをトレーに載せ静電浮上・搬送が可能なウエハー・トレーです。
主な特徴
*耐久性が良く、デバイス不良率の低減が計れます。
*機械加工性が良く、精密形状が可能(厚さ0.3mm、穴φ60μm、Ra0.07鏡面可)
*熱伝導率:70W/mK
*絶縁破壊電圧:22kV/mm
*熱膨係数(4.2ppm)(Si相当)
(その他データを参照下さい)
用途
*プラズマ・エッチング(RIE、ECR等)
*プラズマ・イオン注入
*プラズマ・CVD
*プラズマ・スパッタ
等の装置でSAWフィルターや加速度センサー等々のウエハー・トレーとして。
仕 様 |
測定項目 | 単位 | セラジン「トレー」 | |
窒化アルミ系 (AlN) |
アルミナ系 (Al2O3) |
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サイズ(直径×厚さ) | mm | Φ180迄×0.3t以上 | Φ300迄×0.5t以上 |
面粗度 | μm | Ra 0.5 (鏡面0.05) |
Ra 0.5 (鏡面0.05) |
耐熱性 | ℃ | 300(エッチング用途) 800以上(CVD用途) |
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耐ハロゲン・プラズマ エッチングレート |
nm/min | CF4 - 25 SF6 - 15.6 (サファイア相当) |
CF4 - 59.3 SF6 - 21.5 |
真空アウトガス性 | 300℃ | (m/z=18)付着水分以外、殆ど無し。 | |
その他 | ROHS規制・適合 |